글로벌 기업-ASML 기업에 대하여

전 세계 글로벌 기업 중 시가총액 상위권에 있는 ASML기업에 대하여 알아보겠다.

이미지출처:픽사베이

 

 

1. ASML 기업소개

 1984년에 창립한 세계 최대의 노광장비기업이다.

네덜란드 벨트호벤에 본사를 두고 있고, 필립스와 ASMI의 합작으로 설립되었다.

2021년 기준 노광장비 시장에서 91%의 점유율을 자랑한다.

 

 또한 자외선(EUV) 노광 장치를 독점하는 기업으로 널리 알려졌다.

 

~~노광장비란?

포토 리소그래피공정에서 실리콘 웨이퍼에 집적회로를 프린팅 하는 장비이다.

반도체에 그려지는 집적회로는 나노 시대로 들어오면서 물리적인 방법으로는 그릴 수 없다.

 

그래서 빛에 반응하는 포토 레지스트라고 불리는 감광액을 도포한 후 노광을 해주면 화학적인 반응이 일어나 실리콘 웨이퍼 위에 회로가 그려지는 방식을 이용한다.

n나노대의 반도체를 제작하기 위해서는 EUV(극자외선) 노광장비가 필수적인데 이 장비를 제작할 수 있는 회사는 전 세계에서 ASML 한 곳뿐이다.

 

이 모델은 1대당 3000억이 족히 넘는 초고가 장비이고 공급량도 제한되어 있다.

그래서 , ASML은  슈퍼 을 기업이라고 불린다.

 

한편으로는 이런 거액을 지불할 여력이 되는 반도체 기업이 전 세계에 삼성전자, TSMC, 인텔을 포함해서 한 손으로 꼽을 정도라 고객사 또한 매우 제한적이다.

 

덕분에 TSMC나 삼성 등이 신규 공장 증설 등의 대규모 투자 계획을 발표할 때마다 주가가 오르는 대표적인 기업이다.

 

2. ASML 기업의 역사

-1984년  PAS 2000 Stepper를 출시하였다

~~ PAS 2000 Stepper란?

이 장치의 간략한 성능은 분해능 1.2㎛, 오버레이는 250㎚에 100㎜ 웨이퍼를 이용 가능했고 시간당 40개의 물량을 소화할 수 있었다.

-1986년에는 이 회사에서 PAS 2500 Stepper를 개발하여 판매하였다.

이 장치가 시장에서 호평을 얻으면서 본격적으로 반도체 노광장비 시장에 유명해지기 시작했다.

-1988년에는 필립스와 합작하여 대만에 공장을 세우고 미국에도 84명의 직원에 5개의 지점을 만들면서 아시아, 미국 등 세계 시장 개척에 본격적으로 나서기 시작했다.

ASMI가 합작법인에서 철수하면서 필립스가 그 지분을 인수했다.

 

-1989년에는 PAS 5000을 개발했다.

-1991년 PAS 5500 Stepper/Scanner을 출시하면서 현재는 예전만큼 많이 쓰이지 않지만 당시에는 대세였던 200㎜ 웨이퍼를 이용한 반도체 대량 생산을 위해 만들어진 장치이다.

-1995년에는 IPO를 통해 주식시장에 상장하였고 이와 동시에 필립스에서 ASML의 잔여 지분을 대부분 매각하면서 독립 회사가 되었고 현재도 이 체제가 유지되고 있다.

- 2001년에는 이 회사가 현재의 독보적인 노광장치 업체로 발돋움할 수 있게 한 TwinScan 방식을 개발해 냈다.

~TwinScan 방식이란?

스태퍼는 이름대로 발로 눌러서 한 번에 찍어내듯이 찍는 방식이고 스캐너는 한줄한줄 그려서 회로를 찍어내는 방식이다. 현재 가장 최신 기술이 들어간 EUV 장비의 경우에도 기본적인 방식은 스캐너 방식을 따라가고 있다.

 

- 2007년에 TWINSCAN XT 라인업의 이머전 TWINSCAN XT:1900i 실기기가 고객사들에게 공급되기 시작하였다.

이 라인업의 제품들은 현재까지도 많이 판매가 되고 있고 , 가격이 대당 900억 혹은 그 이상인 비싼 장비인지라 쉽게 교체하기는 힘들다.

최근에는 이머전 ArF 멀티플 패터닝의 한계를 극복하는 방법으로 각광받는 EUV(Extreme UltraViolet) 기술을 적용해서 더블 패터닝만으로 7㎚를 구현할 수 있는 TWINSCAN NXE를 세계에서 유일하게 생산하고 있다.

EUV 장비를 처음으로 발주하기 시작한 건 삼성전자였지만 파운드리 시장 1위인 대만의 TSMC에서도 7㎚ EUV 양산 테스트를 성공적으로 마치면서 극자외선(EUV) 장비 확보에 열을 올리기 시작했다. 

 

-2019년 하반기 기준 두 선발주자들이 EUV 장비를 이용한 포토 공정에서의 안정화 단계에 이제 막 접어들고 있는 상황이며 ASML도 지속적으로 장비를 개선 중이다. (인텔은 2021년부터 본격적으로 도입을 시작할 예정이다).

-2024~2025년부터는 1nm 미만의 미세공정을 구현할 수 있을 것으로 기대되는 차세대 High NA(Numerical Aperture) EUV TWINSCAN EXE 장비의 초도 생산분이 고객사들에게 인도될 예정이다.

 

그러나 예상가격이 현재 EUV 장비 한대 가격인 2,000억 원대를 훌쩍 뛰어넘어 무려 대당 5,000억 원에 이를 것으로 보인다.

 

3. ASML 기업의 경쟁업체

 

노광장비 시장에서 주요 경쟁사라고 할 수 있는 기업들로는 캐논과 니콘이 있다. 

2019년 시점에서 캐논은 NIL(나노 임프린트 리소그래피) 방식의 초미세공법을 개발 중이다.

 

~NIL(나노 임프린트 리소그래피) 방식이란?

UV 감광액을 실리콘 웨이퍼에 코팅한 후 패턴이 그려진 스탬프를 이용하여 압력을 가하면 패턴이 형성되고 이를 UV로 쪼아주면 굳어서 회로가 만들어지는 것을 이용한 공법이다. 

 

비교적 저렴한 UV를 이용해서 장비의 가격 자체가 낮기 때문에 기존의 이머전 ArF 방식에 비해 들어가는 비용이 적다는 장점이 있다. 

 

그러나 단점이 스탬프가 직접적으로 웨이퍼에 접촉하다 보니 그 과정에서 발생하는 찌꺼기 문제나 스탬프의 마모 등의 문제가 있고 시스템 반도체공정에 적용은 어렵다는 것이다.

 

니콘은 위에 나온 멀티플 패터닝 장비를 출하하는데 주 고객사였던 TSMC, 인텔이 점점 EUV로 갈아타는 추세다.

 

기타 반도체장비 업체로는 AMAT과 도쿄 일렉트론, 그리고 램리서치, KLA 텐코 등이 있다.

이상으로 전 세계 글로벌 기업 중 시가총액 상위권에 있는 ASML기업에 대하여 알아보았다.